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습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...
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아연 광택제 첨가제는 선형 지방족아민 중합체, 아민화 폴리에피크로르히드린, 폴리에틸렌이민 및 이들의 조합으로 구성된 부류에서 선택된 중합체아민 및 순차적 첨가에 의해 제조된 프로필렌옥사이드-에틸렌옥사이드 블록 공중합체를 포함한다.
아연/합금
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미국특허 · 1977-4049510 · William E. Rosenberg ·
참조 23회
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염화 아연도금조에 소량의 염화암모늄이 존재하면 심각한 폐기물 처리 문제를 일으키지 않고 비용을 크게 절감하고 도금부품의 품질을 높일수 있다.
아연/합금
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Plating & Surface Finishing · n/a · William E. Rosenberg ·
참조 71회
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산성 주석 전기도금에는 광택제로 알콕시 나프탈렌 카복스 알데하이드, 특정 유화제 및 시너지 효과가 있는 특정 카복실산, 아미드 및 에스테르가 포함되어 매우 밝은 전착을 제공 한다.
석납/합금
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미국특허 · 1976-3977949 · William E. Rosenberg ·
참조 38회
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산성 주석 전기도금은 다음 식을 갖는 광택제 화합물을 포함한다. 여기서 O 는 산소이고 A 는 수소, 하이드록시 알킬, 폴리알콕시 및 3- 설포 프로필로 구성된 부류에서 선택된다. 특정 유화제 및 특정 상승 작용을 하는 카복실산 , 아미드 및 에스테르는 매우 밝은 광택을 제공한다.
석납/합금
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미국특허 · 1977-4061547 · William E. Rosenberg ·
참조 32회
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전기도금용 주석광택제는 매우 넓은 전류밀도 범위에서 균일한 도금을 생성하기 위한 다양한 트리알킬 벤즈알데하이드를 포함한다.
석납/합금
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미국특허 · 1983-4545870 · William E. Rosenberg ·
참조 49회
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주석의 전기도금 생산을 위한 수용성 도금욕 광택제 조성
주석 광택제 조성물 및 도금욕은 그 위에 하나 이상의 치환된 알데하이드기를 갖는 치환된 나프탈렌을 사용한다.
석납/합금
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미국특허 · 1985-4530741 · William E. Rosenberg ·
참조 34회
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주석의 반광택에서 광택 전착을 제조하기 위한 수용성 산성 도금욕 및 광택제 혼합물
도금욕용 주석 광택제 혼합물은 염소화 아세토페논, 유화제, 아크릴산 또는 메타크릴산을 포함한다. 또한 방향족 알데하이드를 사용할수 있다. 주석 광택제는 평방피트당 0~150 암페어 이상의 반광에서 광택피막을 생성한다
석납/합금
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미국특허 · USP-4,417,957 · William E. Rosenberg ·
참조 41회
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도금욕용 주석 광택제제 혼합물은 염소화 아세토 페논, 유화제, 아크릴산 또는 메타크릴산을 포함한다. 또한 방향족 알데하이드를 사용할수 있다. 주석 광택제는 평방피트당 0~150 암페어 이상의 반광에서 밝은 도금을 생성한다.
석납/합금
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미국특허 · 1983-4417957 · William E. Rosenberg ·
참조 31회
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